電子（zǐ）顯微（wēi）分（fèn）析主要主要有哪些？
　　電子（zǐ）顯微（wēi）分（fèn）析主要主要有透射（shè）電（diàn）子顯微分析、掃（sǎo）描電子顯微分析等等的材料分析（xī）方法，它是比較被廣泛運用的！但是，電磁透鏡優（yōu）勢會產生像差，我們應該怎麽減少它的相差呢？幾（jǐ）何像差是因為透鏡磁場幾何形狀上的缺陷而造成的。采取穩（wěn）定加速電壓的方法可有效地減小色（sè）差！因為，色差散焦斑（bān）越大，透（tòu）鏡像分辯率（lǜ）越差，所以（yǐ）應盡（jìn）可能減小（xiǎo）樣品厚度，以利於提高透鏡像的分辯率！X射線也是能夠進行（háng）精確的材料分析的！X射線不僅可以在材料分析上，在其他領域也是十（shí）分被廣泛應用的！
　　三（sān）豐三次（cì）元專（zhuān）業維護維修保養中講述的材料分（fèn）析（xī）包括化學組成（chéng）、組織結構、微觀形貌等等方麵，材料分析（xī）技術可（kě）以分為（wéi）很多種，其中，電子（zǐ）顯微分析方法就是以材料微觀形貌、結構與成分分析為（wéi）基本目的。